溅射钼靶材因其本身优点，已经在电子行业、太阳能电池、玻璃镀膜等方面得到了广泛的使用。随着现代科技微型化、集成化、数字化、智能化的快速发展，钼靶材的用量将持续增长，对其质量要求也必将越来越高。所以就需要想办法提高钼靶材利用率，现在小编为大家介绍几种提高溅射钼靶材的利用率的方法。

01反面加电磁线圈

想提高溅射钼靶材的利用率，可以在平面的磁控溅射钼靶材的反面加上一圈电磁线圈，经过增加电磁线圈的电流来增大钼靶材外表的磁场，以提高钼靶材的利用率。

02选用管状旋转靶材

与平面靶材相比，选用管状旋转靶材结构就凸显出它的实质性优势，一般平面靶材的利用率仅为30%~50%，而管状旋转靶材的利用率则可以达到80％之上。不仅如此，使用旋转空心圆管磁控溅射靶时，由于靶材可绕固定的条状磁铁组件一直旋转，所以在它的外表不会产生重沉积现象，所以一般旋转靶的寿命要比平面靶材高5倍不止。

03更换新式溅射设备

提高靶材利用率的关键在于完成溅射设备的更新换代。钼溅射靶材在溅射进程中靶材原子被氢离子撞击出来后，约六分之一的溅射原子会淀积到真空室内壁或支架上，增加清洁真空设备的费用及停机时间。所以更换新式溅射设备也有助于提高溅射钼靶材的利用率。