如何提升溅射钼靶材的利用率

溅射钼靶材因其本身优点,已经在电子行业、太阳能电池、玻璃镀膜等方面得到了广泛的使用。随着现代科技微型化、集成化、数字化、智能化的快速发展,钼靶材的用量将持续增长,对其质量要求也必将越来越高。所以就需要想办法提高钼靶材利用率,现在小编为大家介绍几种提高溅射钼靶材的利用率的方法。

01反面加电磁线圈

想提高溅射钼靶材的利用率,可以在平面的磁控溅射钼靶材的反面加上一圈电磁线圈,经过增加电磁线圈的电流来增大钼靶材外表的磁场,以提高钼靶材的利用率。


02选用管状旋转靶材

与平面靶材相比,选用管状旋转靶材结构就凸显出它的实质性优势,一般平面靶材的利用率仅为30%~50%,而管状旋转靶材的利用率则可以达到80%之上。不仅如此,使用旋转空心圆管磁控溅射靶时,由于靶材可绕固定的条状磁铁组件一直旋转,所以在它的外表不会产生重沉积现象,所以一般旋转靶的寿命要比平面靶材高5倍不止。

03更换新式溅射设备

提高靶材利用率的关键在于完成溅射设备的更新换代。钼溅射靶材在溅射进程中靶材原子被氢离子撞击出来后,约六分之一的溅射原子会淀积到真空室内壁或支架上,增加清洁真空设备的费用及停机时间。所以更换新式溅射设备也有助于提高溅射钼靶材的利用率。